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等離子去膠機是一種用于表面處理的設備,主要通過等離子體的作用去除表面的膠水、油污、油漆或其他不需要的物質。它常用于電子、汽車、航空等行業,尤其是在需要精細清潔和精密處理的場合。其工作原理是利用等離子體的高能量對物體表面進行處理,通過化學反應或物理反應去除表面污染物。 眾多等離子去膠機品牌中,哪個等離子去膠機品牌值得推薦?答案就是:華儀行(CIF) 華儀行CIF等離子去膠機特別適合于大學,科研院所和微電子、半導體企業 實驗室,對電路板、外延片、芯片、環氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層,干刻或濕刻處理前或后,對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除,以及晶圓表面預處理等。 ![]()
產品特點 ◆ 7 寸彩色觸摸屏互動操作界面,自動控制監測工藝參數狀態,20種配方程序,工藝數據可存儲追溯。 ◆ PLC 工控機控制整個去膠過程,手動、自動兩種工作模式。 ◆ 石英真空艙,全真空管路系統采用 316 不銹鋼材質,耐腐蝕無污染。 ◆ 可選用石英舟,更適合晶元硅片去膠應用。 ◆ 采用花灑式多孔道進氣方式,改變單孔進氣不均勻問題。 ◆ 采用防腐數字流量計,實現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統,可選多氣路氣體輸送系統,氣體分配均勻。 可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體。 ◆ HEPA 高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。 ◆ 處理高效均勻,效率高,工藝重復性好。 ◆ 樣品處理溫度低,無熱損傷和熱氧化。 ◆ 安全保護,艙門打開,自動關閉電源,機器運行、停止提示。 等離子去膠機的優勢包括: 高效去除污染物:通過高能等離子體能夠迅速、有效地去除表面污染物,適合各種材料的表面清洗。 不損傷基材:由于等離子處理通常是在低溫下進行,不會對基材本身造成損傷。 環保性強:這種處理方法不需要使用化學溶劑,因此更加環保,不產生有害氣體和廢水。 適用范圍廣:能夠處理多種不同材料,如金屬、塑料、陶瓷等。
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