icp-aes的干擾及消除

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icp-aes的干擾主要包括光譜干擾、物理干擾、化學干擾與電離干擾。其消除方法包括干擾系數法、多譜線擬合程序、背景校正技術、基體匹配法等。
icp-aes的干擾：
1.光譜干擾：
光譜干擾是ICP-AES分析中最常見的問題，主要是由于儀器的色散率和分辨率不足導致元素間的譜線重疊。
此類干擾分為譜線重疊干擾和背景干擾。譜線重疊干擾可以通過選擇分辨率更高的分光系統來減少，而背景干擾則可以通過現代儀器具備的背景校正技術來扣除。
2.物理干擾：
物理干擾主要涉及溶液的粘度、比重和表面張力等物理性質對分析結果的影響。
這種干擾可以通過保持標準試液與待測試樣在基體組成、總鹽度、有機溶劑和酸的濃度等方面的一致性來減輕。
使用蠕動泵進樣和內標校正法也可以補償物理干擾的影響。
3.化學干擾：
在ICP-AES中，化學干擾相對較少，通常可以忽略不計。
這是由于ICP的高溫和高電子數密度使得樣品中的化學鍵很容易被破壞，減少了化學干擾的可能性。
4.電離干擾：
電離干擾涉及到樣品中易電離元素對分析結果的影響。
盡管ICP比其他光源受此影響較小，但在某些情況下仍需優化等離子體參數或使用雙向觀察技術來減少此類干擾。
icp-aes的干擾消除方法：
1.干擾系數法：
通過實驗確定干擾元素對分析元素的影響程度，并計算干擾系數。
在知道干擾元素濃度的情況下，可以利用干擾系數來校正分析結果。
2.多譜線擬合程序：
當存在復雜譜線重疊時，單一干擾系數可能無法準確校正，此時需要采用多譜線擬合程序來進行更復雜的校正。
3.背景校正技術：
利用先進的背景校正技術可以有效扣除由于連續發射形成的帶狀光譜疊加在分析線上的背景干擾。
4.基體匹配法：
通過模擬樣品的基體組成，制備與待測樣品相似的標準溶液，以消除基體效應的干擾。
5.標準加入法：
將已知量的標準溶液加入到樣品中，觀察分析信號的變化，以此來確定樣品中目標元素的濃度，可以減少基體效應的影響。
6.內標校正法：
選擇一種與分析元素行為相似的元素作為內標，對其進行同步測量，以校正樣品處理過程中可能引入的誤差。
7.分離技術：
在樣品前處理階段應用分離技術，如萃取、色譜等，以去除或減少干擾物質的濃度，減輕或消除基體干擾。

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